كارل زايس (شركة)

كارل زايس
النوع	GmbH (Germany)
الصناعة	تكنولوجيا تصنيع أشباه الموصلات
تأسست	2001
المقر الرئيسي	أوبركوخن، ألمانيا
الأشخاص الرئيسيون	فرانك روموند; Torsten Reitze;
الدخل	4.122 بليون يورو (2023/24)
الموظفون	8.500 (2024)
الموقع الإلكتروني	www.zeiss.com/semiconductor-manufacturing-technology/home.html

كارل زايس (Carl Zeiss SMT)، هي مجموعة أعمال تابعة لزايس متخصصة في تكنولوجيا تصنيع أشباه الموصلات، تعمل على تطوير وإنتاج معدات لتصنيع الرقائق الدقيقة. الشركة مملوكة بشكل رئيسي لزايس، مع حصة أقلية بنسبة 24.9% لشركة ASML القابضة.^[3]

يقع المقر الرئيسي للمجموعة في مدينة أوبركوخن الألمانية، بالإضافة إلى مواقع أخرى في ألمانيا تشمل: ينا، ڤتسلار، روسدورف، آخن، كوسڤيگ، [زيورخ (سويسرا)، دبلن (الولايات المتحدة)، وبار-لـِڤ (إسرائيل). ويعمل في هذه المواقع التسعة أكثر من 8.500 موظف.^[1]^[2]

التاريخ

عام 1968، قامت شركة زايس بتزويد الطابعة الدائرية بالبصريات لأول مرة.^[4] بعد حوالي تسع سنوات، تم تجهيز أول سلف في العالم wafer stepper حديث، من إنتاج ديفيد مان (GCA لاحقاً) ببصريات من شركة كارل زايس.^[5] عام 1983، استُخدمت أول بصريات طباعة ضوئية من زايس في wafer stepper من فيليپس. بعد أقل من عشر سنوات، دخلت زايس وشركة فيليپس المتخصصة في عمليات التكسير، ASML، في شراكة استراتيجية.^[6] عام 1994 أسست زايس مجموعة أعمال تكنولوجيا تصنيع أشباه الموصلات. وتبعتها شركة كارل زايس والشركات التابعة لها Carl Zeiss Laser Optics GmbH وCarl Zeiss SMS GmbH عام 2001. وبدأ بناء مصنع تكنولوجيا تصنيع أشباه الموصلات التابع لشركة زايس في أوبركوخن في نفس العام، واكتمل عام 2006.^[7] عام 2010، حقق قطاع أشباه الموصلات إيرادات تجاوزت البليون يورو لأول مرة.^[8] اعتباراً من أكتوبر 2014، دُمجت الشركتين التابعتين Carl Zeiss Laser Optics وCarl Zeiss SMS GmbH في شركة Carl Zeiss SMT GmbH. عام 2017، اشترت ASML حصة أقلية في Carl Zeiss SMT لتعزيز شراكتهما الاستراتيجية.

المنتجات

بصريات تصنيع أشباه الموصلات

تُطوّر مجموعة أعمال زايس وتُنتج البصريات لإنتاج أشباه الموصلات. ويتمثل نشاطها الرئيسي في بصريات الطباعة الضوئية، التي تُشكّل حجر الأساس في ماسح الرقائق. ويتم تطوير وتصنيع بصريات الإسقاط وأنظمة الإضاءة في موقع أوبركوخن، بينما يُنتج معظم أنواع أنظمة الإضاءة في ڤتسلار. بالإضافة إلى بصريات الطباعة الضوئية، تتخصص مجموعة الأعمال في العديد من المنتجات البصرية الأخرى، بما في ذلك المكونات البصرية لأجهزة الليزر المستخدمة كمصادر للضوء في أنظمة الطباعة الضوئية..

مع مزيد من تطوير عملية الطباعة الضوئية EUV إلى الطباعة الضوئية High-NA-EUV، ستمكن تقنية شركة كارل زايس قريباً صناعة أشباه الموصلات من تحقيق الجيل التالي من الرقائق الدقيقة: تتيح الطباعة الضوئية High-NA-EUV استخدام الضوء من نطاق زاوية أكبر للتصوير، مما يسمح بتصوير ما يصل إلى ثلاثة أضعاف الهياكل على رقاقة دقيقة.^[9]

أنظمة الأقنعة الضوئية

يُطوّر هذا القسم ويُصنّع أنظمةً لتحليل وإصلاح عيوب الأقنعة الضوئية، وقياس خصائصها المُحدّدة وتحسينها. يحتوي القناع الضوئي على جميع معلومات البنية التي سيتم تصويرها على الرقاقة باستخدام الضوء.

حلول التحكم في العمليات

تُطوّر هذه الوحدة المنتجة وتُصنّع حلولاً للتحكم في العمليات للحصول على المعلومات ذات الصلة (مثل أحجام الرقائق الدقيقة) وتحليلها لإنتاج رقائق المنطق والذاكرة. يُمكّن هذا صناعة أشباه الموصلات من مواجهة تحديات الجيل القادم من العناصر.

المصادر

^ ^أ ^ب ^ت "Annual Report 2023/24 ZEISS Group". Carl Zeiss AG. Retrieved 2025-01-08.
^ ^أ ^ب ^ت "About us - ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology". Carl Zeiss SMT GmbH. Retrieved 2025-01-08.
^ "ZEISS and ASML Strengthen Partnership for Next Generation of EUV Lithography". www.asml.com (in الإنجليزية). Retrieved 2021-05-11.
^ Hennings, K. (1967). "Technologische Probleme der Mikrominiaturisierung (Planartechnik)". technica (in German): 2337–2341.{{cite journal}}: CS1 maint: unrecognized language (link)
^ Rai-Choudhury, Prosenjit (Ed.) (1997). Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication. Volume 1: Microlithography. SPIE Press. p. 83.
^ Benschop, Jos; Rupp, Wolfgang. "Partnership ASML" (PDF). Archived from the original (PDF) on 2014-02-01. Retrieved 2014-04-04.
^ Paetrow, Stephan (2011). Birds of a Feather. 20 Years of Reunification at Carl Zeiss. Hanseatischer Merkur, Hamburg. p. 111.
^ "Facts & Figures". Carl Zeiss SMT GmbH. Retrieved 2014-07-14.
^ "High-NA-EUV Lithography". Carl Zeiss SMT GmbH. Retrieved 2025-01-08.

قراءات إضافية

Carl Zeiss is a top supplier of critical subsystems, in: WaferNEWS, July 7/2003, pp. 4

وصلات خارجية

?

[Annual_Report-1] أ ^ب ^ت "Annual Report 2023/24 ZEISS Group". Carl Zeiss AG. Retrieved 2025-01-08.

[About_Us-2] أ ^ب ^ت "About us - ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology". Carl Zeiss SMT GmbH. Retrieved 2025-01-08.

[3] "ZEISS and ASML Strengthen Partnership for Next Generation of EUV Lithography". www.asml.com (in الإنجليزية). Retrieved 2021-05-11.

[4] Hennings, K. (1967). "Technologische Probleme der Mikrominiaturisierung (Planartechnik)". technica (in German): 2337–2341.{{cite journal}}: CS1 maint: unrecognized language (link)

[5] Rai-Choudhury, Prosenjit (Ed.) (1997). Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication. Volume 1: Microlithography. SPIE Press. p. 83.

[6] Benschop, Jos; Rupp, Wolfgang. "Partnership ASML" (PDF). Archived from the original (PDF) on 2014-02-01. Retrieved 2014-04-04.

[7] Paetrow, Stephan (2011). Birds of a Feather. 20 Years of Reunification at Carl Zeiss. Hanseatischer Merkur, Hamburg. p. 111.

[smt.zeiss.com/-8] "Facts & Figures". Carl Zeiss SMT GmbH. Retrieved 2014-07-14.

[9] "High-NA-EUV Lithography". Carl Zeiss SMT GmbH. Retrieved 2025-01-08.

[1]

[2]

[3]

[4]

[5]

[6]

[7]

[8]

[9]